Вольфрам дисульфид 02: SiO2/Кремниевая подложка WS2/300nm

Химические паровые осаждения (CVD)

Информация о продукте:

Шесть углеродных технологий WS2 пленка делится на различные:

1) один слой дискретно распределенных треугольных цельных кристаллических зерен с треугольной длиной стороны, как правило, от нескольких десятков до сто микрометров.

2) Однослойная непрерывная пленка, которая продолжает расти в далянь треугольными зернами.

3) многослойная пленка WS2 непрерывного действия.

4) Подложка: WS2 имеет более дополнительные подложки, и сапфировый субстрат является продуктом прямого осаждения. Другие субстраты, такие как SiO2/Si, кремниевые пластины, PET, PI, ITO, FTO, стекло, металлические подложки и т. д., передаются на подложку, требуемую заказчиком после роста сапфира.

Применение областях:

Оптоэлектронные устройства, микроэлектронные устройства, биозондирование, химическое зондирование и другие области.

Упаковка и технические характеристики

10*10 мм, 15*15 мм, 20*20 мм, 2-дюймовые вафли, 4-х дюймовые вафли или по индивидуальному заказу указан изготовление размеров под заказ.

Очищающая вакуумная упаковка, 1 шт./кор., 5 шт./кор.. 10 шт./кор..

Типичные клиенты включают в себя:

MIT, Caltech, Стэнфордский университет;

Оксфордский университет, Манчестерский университет;

Сеульский национальный университет, корейский научно-технический университет (KAIST) и Университет Sungkyunkwan;

Токийский Технологический центр, Мурата производственная компания, лтд.

Tsinghua, Пекинский университет, Institute of Semiconductors, китайская Academy of Sciences

И другие научно-исследовательские организации мирового уровня.